BASF a anunţat construcţia unei noi unităţi de producţie pentru hidroxid de amoniu de puritate electronică (NH₄OH EG) la Ludwigshafen, Germania, destinată industriei semiconductorilor, potrivit unui comunicat transmis redacţiei.
Noua instalaţie va furniza substanţe chimice ultrapure folosite în procesele de curăţare, gravare şi alte etape de precizie din fabricarea semiconductorilor, contribuind la dezvoltarea lanţului european de aprovizionare pentru producţia de cipuri avansate. Începerea operaţiunilor este planificată pentru anul 2027.
„Suntem recunoscători şi onoraţi de încrederea pe care o primim din partea clienţilor noştri, care ne percep ca fiind un partener strategic pe termen lung în dezvoltarea lor regională”, a declarat Jens Liebermann, Senior Vice President, Electronic Materials, BASF. La rândul său, Gops Pillay, President Global Operating Division, a subliniat că investiţia „reafirmă angajamentul companiei de a susţine industria semiconductorilor în Europa.”
Compania precizează că decizia vine în contextul extinderii producţiei de cipuri în Europa şi al colaborării cu un partener strategic care construieşte o nouă fabrică de semiconductori pe continent.
Hidroxidul de amoniu produs în noua unitate va fi esenţial pentru tehnologiile de cipuri de generaţie avansată utilizate în industrii-cheie precum automobilele şi inteligenţa artificială.
BASF este unul dintre liderii globali în furnizarea de substanţe chimice de înaltă puritate pentru industria semiconductorilor, cu un portofoliu care acoperă principalele etape ale procesului de fabricaţie - de la curăţare şi gravare, la fotolitografie şi depunere metalică.














































Opinia Cititorului